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亞微米粒徑電位檢測(cè)儀有利于拋光加工過(guò)程的順利進(jìn)行

 更新時(shí)間:2017-04-14  點(diǎn)擊量:1990
    亞微米粒徑電位檢測(cè)儀有利于拋光加工過(guò)程的順利進(jìn)行
    亞微米粒徑電位檢測(cè)儀具有二種測(cè)試功能。*,用于測(cè)定各種膠體分散相表面電動(dòng)電位(Zata電拉)和微粒帶電極性,在現(xiàn)代科研工作、工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)以及醫(yī)學(xué)、生物學(xué)領(lǐng)域中測(cè)定電動(dòng)電位的值,對(duì)研究了解分散相表面特性和微粒的分散聚團(tuán)特性等均具有十分重要的意義。第二,可以測(cè)定各種粉體或膠體的粒徑分布,并將測(cè)定結(jié)果、粒徑百分含量數(shù)、粒徑分布曲線、累積曲線、中徑等參數(shù)自動(dòng)打印輸出,可廣泛應(yīng)用于工業(yè)、農(nóng)業(yè)和科學(xué)實(shí)驗(yàn)上,在造紙、食品、建筑等行業(yè)作用尤為顯著。
   亞微米粒徑電位檢測(cè)儀由顯微光系統(tǒng)、攝像監(jiān)視系統(tǒng)、電泳槽和粒徑測(cè)定器以及電子線路控制、打印輸出等部件組成。亞微米粒徑電位檢測(cè)儀結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射(DLS)和電泳光散射(ELS)的技術(shù),能同時(shí)實(shí)現(xiàn)檢測(cè)粒徑和Zeta電位的功能,并使用大功率的He-Ne激光光源,為檢測(cè)提供了更高的度,真正做到直接檢測(cè)而無(wú)需校正,并獲得更高的分辨率及重現(xiàn)性。
   亞微米粒徑電位檢測(cè)儀的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征。懸浮在溶液中的顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)造成散射光光強(qiáng)的波動(dòng)。  分析光強(qiáng)的波動(dòng)得到顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)速度再通過(guò)斯托克斯-愛(ài)因斯坦方程得到顆粒的粒度。亞微米粒徑電位檢測(cè)儀使用電泳光散射(ELS)技術(shù)通過(guò)測(cè)量帶點(diǎn)粒子在外加電場(chǎng)中的移動(dòng)速度即電泳遷移率、推算出Zeta電位實(shí)現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位實(shí)現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位測(cè)定的同機(jī)操作。
   亞微米粒徑電位檢測(cè)儀將初始濃度較高的樣本自動(dòng)稀釋至可檢測(cè)的的濃度可稀釋初始固含量為50%的原始樣品本模塊收保護(hù)其可免除人工稀釋樣品帶來(lái)的外界環(huán)境的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差此技術(shù)被用于批量進(jìn)樣和在線檢測(cè)的過(guò)程中。亞微米粒徑電位檢測(cè)儀使用高精度的步進(jìn)電機(jī)和針孔光纖技術(shù)可對(duì)散射光的接收角度進(jìn)行調(diào)整可為微粒粒徑分布提供可高分辨率的多角度檢測(cè)。對(duì)高濃度樣品(≤40%)以及大粒子多分散系的粒徑提供了提供15至度之間不同角度上散射光的采集和檢測(cè)。
   亞微米粒徑電位檢測(cè)儀能實(shí)現(xiàn)多76個(gè)連續(xù)樣本的分析而無(wú)需操作人員的干預(yù)。因此它是一個(gè)非常好的質(zhì)量控制工具能增大樣品的處理量。大大節(jié)省了寶貴的時(shí)間,適用于檢測(cè)懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。磨料既有天然的也有合成的用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。
  亞微米粒徑電位檢測(cè)儀是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。亞微米粒徑電位檢測(cè)儀拋光過(guò)程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì)對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過(guò)程的順利進(jìn)行。