常見分散方法的球磨法或砂磨機(jī)，在分散時(shí)物料、磨珠與機(jī)體之間的撞擊會(huì)對(duì)納米晶、混懸劑中的納米顆粒造成損傷，磨損的材料進(jìn)入料液中會(huì)變成難以除去的雜質(zhì)，這對(duì)料液的純度產(chǎn)生不利的影響，此外，機(jī)械力過大時(shí)局部升溫過快，也會(huì)導(dǎo)致物料的不穩(wěn)定，影響后續(xù)的使用。
 
日本HM&M的UAM機(jī)型珠磨機(jī)采用立式珠磨設(shè)計(jì)，使得流經(jīng)腔體的物料能獲得充分的珠磨分散和破碎，獲得更為均一體系。同時(shí)，UAM機(jī)型珠磨機(jī)采用離心式磨珠分離器應(yīng)對(duì)微珠分離，利用離心力將磨珠和漿液分離，因此不需要考慮漿液出口處的間隙大小，即使是使用微珠，也不會(huì)發(fā)生堵塞?？墒褂?Phi;15μm至1 mm的磨珠。當(dāng)使用Φ0.1mm或更小的磨珠進(jìn)行處理時(shí)，能應(yīng)對(duì)100nm以下的納米粒子的漿料分散。例如無機(jī)化合物，例如陶瓷的原料，電子材料，光學(xué)材料等以及顏料。這是所有珠磨機(jī)里面分散能力較強(qiáng)的納米粒子分散機(jī)。歷經(jīng)20 多年，我們對(duì)該機(jī)型進(jìn)行了多次改良。這是將亞微米級(jí)分散到納米級(jí)顆粒的分散機(jī)。并為鈦酸鋇，有機(jī)螯合顏料，液晶涂層劑等的納米顆粒加工技術(shù)的做出了貢獻(xiàn)。

除開微米級(jí)磨珠，相對(duì)較大的Φ0.5至1mm的磨珠也同樣適用于這款機(jī)型，因此還可以將各種材料粉碎至從亞微米級(jí)到納米級(jí)的粒子，適用范圍廣，可應(yīng)用于亞微米粒子的粉碎或納米粒子的分散等多個(gè)領(lǐng)域。同時(shí)，設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單，易于拆卸和組裝。也容易回收殘留在研磨腔體中的漿料。

1.此機(jī)型可應(yīng)對(duì)微珠，應(yīng)對(duì)亞微米至納米粒子的粉碎分散處理！

可應(yīng)對(duì)15μm的超細(xì)磨珠下的分散處理，能將漿液里的微粒細(xì)分散至20nm。同時(shí)，UAM具有高分散力的攪拌器結(jié)構(gòu)，是具備高效處理能力的分散機(jī)。

2.磨珠的切換方法簡(jiǎn)單，一臺(tái)設(shè)備能應(yīng)對(duì)多種不同的漿液處理！

可使用的磨珠范圍十分廣泛，φ15μｍ～φ1ｍｍ的磨珠都可使用。 由于具有離心式的磨珠分離器，因此即使使用不同直徑的磨珠，也無需進(jìn)行任何機(jī)械調(diào)整。僅用一臺(tái)設(shè)備即可對(duì)多種漿料進(jìn)行連續(xù)處理、例如可同時(shí)進(jìn)行預(yù)粉碎處理和分散處理。

3.拆卸和組裝的操作簡(jiǎn)單，易于回收漿料！

這款立式珠磨機(jī)，設(shè)計(jì)十分簡(jiǎn)單，易于拆卸和組裝。也很容易回收殘留在粉碎機(jī)中的漿料。

4.具有良好的清潔性！

對(duì)于衛(wèi)生要求相對(duì)高的行業(yè)中，例如食品，化妝品和醫(yī)藥等，我們還提供具有完備清潔性的粉碎裝置，為此，我們對(duì)死角位置和密封接合處的形狀進(jìn)行了改善。